近日，我校新材料界面科学与工程教育部重点实验室、山西省新材料工程与技术研究中心董清晨教授及其合作者在国际高水平综述期刊Chem. Soc. Rev.上发表题为“A molecular approach to magnetic metallic nanostructures from metallopolymer precursors”的综述文章（Chem. Soc. Rev., 2018, 47, 4934）。Chem. Soc. Rev.为英国皇家化学会旗下顶级期刊，目前影响因子IF = 40.182。董清晨教授近几年在以金属聚合物为前体合成磁性纳米粒子及其图案化、信息存储等应用方面做出一些代表性成果，本次董清晨教授与香港理工大学黄维扬教授团队联合将该领域的基础理论知识、发展概况以及未来发展趋势进行了综述性介绍，希望为从事化学、材料以及物理等交叉学科领域的研究人员提供新的研究思路和方向。

自1955年第一个金属聚合物-聚乙烯基二茂铁合成报道以来，随着合成技术的发展，越来越多的功能性金属聚合物被合成、发现和应用。金属中心的引入，使得聚合物的光学、电学、磁学、热学等性质发生显著变化，从而产生新颖的性能。因此，在过去二十多年里，金属聚合物在纳米电子学、电催化、信息存储、有机光电、传感等领域显示出多样化应用，并逐渐发展成为最令人欣喜的功能材料之一。特别值得一提的是，最近十来年，金属聚合物作为前体被用于合成具有特定晶相、组成和图案化的磁性纳米粒子。

本文首先介绍了金属聚合物的种类、合成方法、表征手段，以及聚合物热解制备磁性纳米粒子工艺、结构与性质表征方法、纳米磁学基础知识等。接着又重点讲述了金属聚合物通过光刻技术进行图案化制作方面的研究进展。由于金属聚合物的溶液可加工性以及成膜性能，结合不同的光刻技术，可实现其图案化制作。如结合纳米压印光刻和紫外曝光技术，本团队实现了含FePt聚合物纳米线阵列和点阵列的大面积制作（图1）。同时，许多金属聚合物都可以作为负性光刻胶，通过电子束光刻或者紫外光刻技术进行纳米图案化制作。此外，嵌段型金属聚合物通过自组装还可以实现更高分辨率的纳米图案，从而有望应用于超高容量信息存储、半导体光刻、集成电路等领域。文中还针对当前不同光刻技术的工艺参数进行了总结对比。

图1. 纳米光刻金属聚合物制备的线阵列和点阵列磁性薄膜图案

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